广州新锐光掩模科技有限公司完成新一轮数千万元融资 ,本次新融资方包括 中银金融 、 新微资本 、 工银投资 等。 本轮资金将用于加速国产40nm/55nm光掩膜量产。
公开资料显示, 广州新锐光掩模科技有限公司 成立于2021年2月, 是国内独立光掩膜生产制造商,聚焦于半导体光掩膜的研发与产业化生产 ,提供光掩膜版制造、光掩膜保护膜贴膜、定期品质检测、光掩膜去膜修补和清洗、光刻相关咨询等服务。消息称广州新锐光掩模科技目前主要出货产品是40nm/55nm阶段,更先进工艺的光掩膜则正在稳步推进中。
2025年6月,广州产投工融科城创业投资基金正式完成广州新锐光掩膜科技有限公司B轮增资。在该企业B轮融资中,除工银AIC股权投资试点基金外工商银行广州分行还联动广州工融产投股权投资基金、广州产投工融股权投资基金等工银投资市场化债转股基金,本轮出资合计近5亿元。
广州新锐光掩模科技项目也是广东省重点建设项目之一,前期已获得国家大基金二期、广东省半导体及集成电路产业投资基金、广东武岳峰集成电路股权投资基金等机构的投资。
广州新锐光掩模科技由半导体老将邱慈云担任公司董事长。邱慈云是美国加州大学伯克利分校电气工程博士、哥伦比亚大学高级管理人员工商管理硕士,现任上海硅产业集团股份有限公司总裁,曾任台积电、中芯国际、华虹NEC等头部企业高管。
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask/Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上,待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。 掩膜版的作用类似于传统照相机的“底片” ,是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上,从而实现批量化生产,为光刻工艺中的图形转移母版。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版, 目前,掩膜版的下游主要包括IC制造、IC封装、平面显示和印制线路板等行业。
根据华经产业研究院的数据, 半导体领域 占据60%的份额; 平板显示领域 占比28%份额; PCB等其它领域 占比12%。
作为第二大的下游应用,平板显示产业正进一步向大陆转移 ,大尺寸化趋势持续推进,落后产能出清,大陆产能话语权增强, 带动产业链上游的掩膜版环节加速国产化替代