资讯 | 中科院博士团队创立，半导体材料企业中科卓尔完成数亿元B轮融资

融资主体：中科卓尔

融资轮次：B轮

投资机构：中银国际投资,中银科创基金

推理时间：2025-08-22

8月18日消息，成都中科卓尔智能科技集团有限公司（以下简称中科卓尔）已完成B轮领投方资金交割，本轮融资由中银国际投资发起，旗下科技创新协同发展母基金（下称“中银科创基金”）领投，资金将重点解决半导体光刻用石英掩模基板核心工艺研发及国产化关键产线建设资金需求，加速突破量产瓶颈。多家跟投机构亦在快速推进中，合计B轮融资规模数亿元。

中科卓尔 2018年诞生于成都，由中国科学院光电所杨伟博导带队创立。公司深耕半导体光刻用石英掩模基板，已打通精密抛光、镀膜到核心装备的闭环研发，承担国家空白掩模版产业链攻关任务，产品覆盖130-250 nm制程，28-90 nm新一代技术储备同步推进。

中科卓尔董事长兼首席科学家杨伟表示：“ 本轮资金将聚焦三大方向：第一，持续加码130-250 nm石英掩模基板量产线良率提升；第二，启动28-90 nm先进制程产品小批量验证；第三，扩建洁净厂房与可靠性测试中心，以保障下游晶圆厂供应链安全。”

空白掩模版是光刻工艺的图形转移核心载体，直接决定光刻精度与产品良率，是芯片和显示面板光刻机的关键材料。据多份研究报告，2024 年全球空白掩模版市场规模约 36 亿美元，中国市场需求折合约 100 亿元人民币。

当前，中国大陆中高端空白掩模版高度依赖进口，几乎被日本 HOYA、日本信越化学、韩国 KTG 等企业垄断，国产化率不足 1%；且电子束曝光、缺陷检测等核心生产设备受美日出口管制，国内产业扩产受限，亟待破局。

目前，中国大陆仅 4-5 家企业能小批量向第三方供应石英空白掩模版，且关键制程设备仍依赖进口。「中科卓尔」创始人杨伟指出：“依赖进口设备的产线存在停摆风险”，同时强调 “现有光刻技术路线下，掩模版作为关键材料仍有约 10 年不可替代周期”。

技术层面，中科卓尔已实现三项自主突破：超精密抛光工艺表面粗糙度优于 0.2 纳米（国际主流水平 0.3 纳米）；磁控溅射镀膜设备膜层均匀性达 ±2%（国际标准 ±5%）；缺陷检测系统可识别 0.3 微米级瑕疵并关联生产数据。杨伟表示，国产空白掩模版在 130-500nm 制程已实现技术对标，100nm 以内先进节点仍需持续突破。

商业化进展上，中科卓尔空白掩模版已通过路维光电、龙图光罩及国内多家自研光刻机企业验证。目前其成都中试线已完成工艺与产品验证，本轮融资将重点推进量产能力建设。

Title

bottom