1 公司概况

1.1 公司介绍

武汉市太紫微光电科技有限公司成立于2024年5月，是一家专注于半导体专用高端电子化学品材料研发的高新技术企业。公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立，注册地位于湖北省武汉市东湖新技术开发区，注册资本200万元人民币。作为中国光电子产业的新兴力量，公司致力于通过自主创新打破国外在半导体材料领域的技术垄断。

公司的核心竞争力主要体现在三个方面：首先是在光刻胶底层技术研发方面拥有20多年的深厚积累；其次是实现了从原材料到配方的全自主设计能力；最后是研发团队在有机及纳米光电子学领域具有国际领先的专业水平。公司创始人朱明强教授作为英国皇家化学会会员和华中科技大学教授，带领团队成功攻克了合成光刻胶所需的原料和配方关键技术，这一突破对我国芯片制造关键原材料的自主可控具有重大战略意义。

1.2 公司产品

太紫微光电的核心产品是T150 A系列光刻胶，该产品已通过半导体工艺量产验证，主要技术参数和特点包括：

1. 技术性能：极限分辨率达到120纳米，工艺宽容度优于国外同类产品UV1610，坚膜后烘留膜率表现优异。在刻蚀密集图形时，下层介质的侧壁垂直度控制达到国际先进水平。

2. 产品定位：主要对标国际头部企业的KrF光刻胶系列，适用于半导体制造中的关键光刻工艺环节。产品采用全自主设计的配方体系，打破了国外企业对高端光刻胶的技术封锁。

3. 研发管线：公司正在开发系列化产品，包括适用于不同场景的KrF与ArF光刻胶。其中ArF光刻胶研发将面向更先进的半导体制造工艺节点。

4. 应用验证：产品已在国内主要晶圆厂完成工艺验证，在稳定性、后道工艺兼容性等方面表现突出，特别适合国内半导体制造环境。

1.3 公司股东

股东信息表

股权结构分析

公司的股权结构呈现以下特点：

1. 实际控制人：朱明强通过直接持股（40%）和间接持股（合计37%）方式，实际控制公司77%的股权，是公司的最终受益人和决策核心。这种高度集中的股权结构有利于公司快速决策和技术路线的持续投入。

2. 战略股东：湖北高碳光电科技有限公司作为第二大股东，由朱明强100%控股，这一架构设计可能出于业务协同或知识产权保护的考虑。高碳光电在产业链上可能与太紫微光电形成技术互补。

3. 员工持股平台：武汉市马斯洛普管理咨询合伙企业（有限合伙）作为持股平台，朱明强在其中持股8%，其余股份可能用于激励核心研发团队。这种安排有助于保持技术团队的稳定性。

1.4 团队成员

公司核心团队由光电子材料领域的顶尖专家组成：

1. 朱明强教授：公司创始人和技术带头人，英国皇家化学会会员，华中科技大学二级教授。在有机及纳米光电子学领域有20余年研究经验，主导完成了光刻胶关键技术的突破。作为公司执行董事兼财务负责人，全面负责战略规划和技术路线制定。

2. 研发团队：主要来自华中科技大学武汉光电国家研究中心，包括多名在光刻胶材料、半导体工艺领域有10年以上经验的博士研究人员。团队在光引发剂合成、树脂改性、配方优化等方面拥有多项核心技术。

3. 运营团队：由具有半导体材料产业化经验的专业人士组成，负责将实验室成果转化为规模化生产。团队成员曾参与多个国家级电子材料项目的产业化工作。

4. 技术顾问：聘请了包括中国科学院院士在内的多名半导体材料专家作为技术顾问，为公司提供前沿技术指导。

1.5 公司发展历程

公司自成立以来实现了快速发展，主要里程碑包括：

1. 2024年5月：公司正式注册成立，完成200万元注册资本认缴，由华中科技大学武汉光电国家研究中心孵化。

2. 2024年10月：突破光刻胶原料和配方关键技术，成功开发出T150 A光刻胶原型产品。同期完成首轮融资，投资方为关联企业高碳光电。

3. 2024年第四季度：T150 A光刻胶通过国内主要晶圆厂的工艺验证，开始小批量试产。同期申请3项发明专利，涵盖光刻胶配方、制备方法和检测技术。

4. 2025年：建立完整的质量管理体系，产品进入国内半导体供应链。开始KrF与ArF光刻胶系列产品的研发，布局更先进的技术节点。

5. 未来规划：计划在2026年完成首条自动化生产线建设，实现光刻胶产品的规模化量产；2027年前完成ArF光刻胶的技术攻关，进入高端市场。

2. 行业前景分析

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3. 公司实力分析

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4. 公司风险分析

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5. 对外投资分析

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6. 附件

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